半導体史上もっとも困難な深孔加工を強いられる3次元NANDの製造であるが、この深孔加工を巡って東芝は迷走に次ぐ迷走を重ねた。 当初、東芝の積層膜は、シリコン酸化膜（SiO2）／多結晶シリコン（PolySi）／シリコン酸化膜（SiO2）／多結晶シリコン（PolySi ...

キヤノンの中央研究所は、直径約3nmの貫通路を数nmの間隔で面内の一定方向に整列させて積層した、「メソポーラス（孔径2～50nmの多孔質）」な厚さ数百nmのシリカ（酸化シリコン、SiO2）薄膜を形成する技術を開発した(図）。通路の向きは、±6°の範囲内で ...

広島大学自然科学研究支援開発センターの斎藤健一教授らは、もみ殻に含まれるガラス（SiO2）からオレンジ色に発光するシリコン量子ドットを合成し、シリコン量子ドット発光ダイオード（LED）の開発に成功した。量子ドットの発光効率は21％。

みなさんこんにちは！今日は、東北大学らが発表した電子機器内の熱流を自在に制御できるメカニズムを発見したという論文が興味深かったので、取り上げたいと思います💡 今回の発表の概要は以下の通りです👇 ・絶縁膜の熱の流れを自在に制御できる ...

持ち前の強い意思を顔のおもてに表し、大見忠弘氏はこう切り出したのだ。日本電子デバイス産業協会（NEDIA）の東北キックオフセミナー（仙台、12月11日開催）の講演における発言である。大見氏は日本の半導体がめちゃくちゃになっている現状を憂えた ...

シリコンウェハ酸化膜上で原子分解能STEM観察に成功 ～ナノ材料の非破壊原子分解能評価のための効果的なアプローチ～ 1.発表者: 丸山 茂夫（東京大学 大学院工学系研究科機械工学専攻 教授） 項 栄（東京大学 大学院工学系研究科機械工学専攻 助教） 安 華 ...